11月22日下午，由北京大学集成电路学院、集成电路高精尖创新中心、北京大学国家集成电路产教融合创新平台、集成电路科学与未来技术北京实验室、后摩尔时代微纳电子学科创新引智基地及北京大学校友会半导体分会联合主办的“未名·芯”论坛系列讲座第五十一期在北京大学微纳电子大厦103报告厅成功举行。本期邀请湖南大学段辉高教授带来题为“高分辨电子束光刻工艺及其应用”的报告。讲座由集成电路学院李志宏教授主持。

段教授首先从微纳制造在现代科技中的核心地位切入，深入浅出地讲述了微纳制造、先进光刻、电子束光刻的发展历程。段教授介绍，电子束光刻是目前分辨率最高、使用最灵活的光刻手段，是现代半导体制造行业及微纳加工领域的基础性工具，始终是量产的方案之一，电子束光刻在微纳加工中扮演着关键角色。

随后，段教授详细向大家介绍了电子束光刻系统的基本组成和原理，具体介绍了电子光刻系统组成中的电子枪、电子光学柱、工件台，以及电子束光刻设备的曝光过程和关键设备指标。在此基础上，段教授进一步向大家介绍了电子束抗蚀剂及工艺，分析了抗蚀剂性能关键评价指标，深入分析了显影对比度的微观机理以及获得理想显影对比度的方法。

下一部分，段教授向大家介绍了典型的电子束光刻应用，包括IC芯片领域高端光刻掩膜版制造、大面积特种光栅、DFB光栅、光子芯片及光子晶体、平面超透镜、纳米SAW器件、量子计算芯片、短波光学元件、SNSPD阵列、纳米压印模板等，展现出半导体及精密光学行业对电子束光刻的巨大需求。

最后，段教授向大家介绍了其课题组在电子束光刻方面的相关工作。段老师通过创新电子束光刻相关工艺，不断将电子束加工分辨率推向极限，赋能极端微纳制造工艺及微系统技术，比如轮廓跨尺度加工、近零粘附界面实现光刻胶转印、多场景干法lift-off、高精度纳米灰度台阶加工、难加工光学材料的离子束抛光加工等。

在提问环节，现场听众积极踊跃举手提问，段教授耐心解答了与会师生提出的关于显影条件、电子束光刻掩膜、力学辅助转移、科研道路规划等问题，为在场师生带来了深刻的启发，加深了在场师生对电子束光刻和微纳加工的认识和理解。

个人简介：

段辉高，湖南大学机械与运载工程学院教授。2004年及2010年获兰州大学物理学学士和博士学位，曾先后在中科院电工所、美国麻省理工学院、新加坡科技研究局材料工程研究院、德国斯图加特大学及马普固体所、英国南安普顿大学等机构从事科研工作，2012年加入湖南大学。曾获全国百优、国家优青、国家杰青等人才项目支持，在NatureNanotechnology、Nature Energy、Light: Science & Applications、Nano Letters等国内外期刊上发表论文290余篇，H因子为74，现担任《极端制造（英文）》、Research、《光学精密工程》等5本期刊编委或副主编。